等離子發(fā)光分析終點(diǎn)檢測儀

產(chǎn)品介紹

特征

• 布賴(lài)特光柵

布賴(lài)特光學(xué)系統是通過(guò)HORIBA Jobin Yvon制造的一個(gè)巨大的，直徑為70 mm的偏差糾正凹面光柵而實(shí)現的。凹面光柵本身的聚光能力使其具有 比短焦距車(chē)爾尼特納型光譜儀更為明亮的一套簡(jiǎn)易光學(xué)系統架構，并且可以小化因為鏡面及其他反射面造成的反射損失。

• 背光式CCD傳感器可以提供高靈敏度和高分辨度的2048個(gè)光學(xué)通道。

背光式CCD可以達到高量子效率，確保從紫外光到可見(jiàn)光之間的寬波段范圍內獲得穩定的分光鏡使用。高靈敏度的測量在紫外光波段，特別是在那些較少受到干擾影響的波長(cháng)范圍，使終點(diǎn)監測成為可能。

• 專(zhuān)為*制程控制而準備的Sigma-P軟件

應制程控制的要求，此軟件可以執行多種工序，從等離子體現象分析到測量數據的數據庫創(chuàng )建和生產(chǎn)設備的遠程遙控。測量工序的可編程架構設計使其可以對多重監測和時(shí)序處理進(jìn)行設定。它賦予檢測器不僅可以被用于終點(diǎn)監測，同時(shí)也可以被廣泛的用于等離子體環(huán)境下的監測。

• 這是一種對于等離子體異常情況進(jìn)行報警的*設計，也可以通過(guò)利用2種波長(cháng)之間的變換系數來(lái)指導終點(diǎn)測量。
• 全回收功能

一旦收集到光譜學(xué)的數據后，對制程優(yōu)化或者終點(diǎn)監測的模擬可以通過(guò)應用新的制程設計反復進(jìn)行。

 

• 一個(gè)用于識別等離子中發(fā)光類(lèi)別的數據庫已經(jīng)包含在內
• 光譜學(xué)數據可以轉換成一個(gè)時(shí)距記錄曲線(xiàn)圖，或者可以通過(guò)屏幕格式，把操作波形，比對參考數據獲得的相對計算波形和其他信息顯示出來(lái)。
• 為時(shí)間記錄圖分析而準備的自動(dòng)圖形軟件

從巨大并伴隨干擾的光譜數據中發(fā)現細微的圖形差異是一個(gè)艱巨的挑戰。自動(dòng)圖形軟件將自動(dòng)地找到圖形變化的特征并測定為合適的終點(diǎn)波長(cháng)。

• 強大的終點(diǎn)數學(xué)模型。
• 通過(guò)使用客戶(hù)波長(cháng)范圍的計算波形和過(guò)濾系統，終點(diǎn)可以被準確的發(fā)現。在接近2個(gè)區域的2條直線(xiàn)的交叉點(diǎn)，發(fā)展的數學(xué)模型賦予機臺穩定的監測細微變化的性能。此功能確保各點(diǎn)的變化準確地從干擾中被區分出來(lái)，正如終點(diǎn)在微小開(kāi)放區域內的細號變化，都能被準確的監測。
• 超出微小開(kāi)放區域（<0.2%）的蝕刻監測。

當頻率率波器將干擾信號從原始信號中過(guò)濾掉后，不同信號（粉色線(xiàn)）在圖形中的比率（黑色線(xiàn)）變化（上升（A+B+C）/減?。―+E+F））可以使我們準確監測到終點(diǎn)的位置。

• 制程設計，一種伴隨分析結果同步自動(dòng)完成的制程生成軟件（選擇項軟件）
• 制程設計是自動(dòng)圖形分析工具的一種衍生版本。它賦予使用者通過(guò)在顯示器上實(shí)時(shí)的分析和模擬，生成數學(xué)模型。這種數學(xué)模型可以很容易地被構建到真實(shí)的制程里。對于那些微弱和復雜的發(fā)光類(lèi)別型的終點(diǎn)監測， 或者因制程條件的變化而不能被發(fā)現的終點(diǎn)監測，或者類(lèi)似情況，這種設計可以使制程研制的負擔大大減輕。
• *步：自動(dòng)分離出波長(cháng)變化的圖形；
• 第二步：使用接近的2條直線(xiàn)，鑒定出變化點(diǎn)；
• 第三步：通過(guò)完整的數學(xué)模型進(jìn)行的EDP模擬管理可以被輸出和構建到Sigma-P中；*的統計處理：反饋給制程。
• 統計處理編輯可以從大量不同的視圖中分析日志數據，幫助提高異常分析和缺陷率。分析的結果可以被反饋到測量當中。